초록 ▼

□ 연구개발 목표 및 내용
❍ 최종 목표
반도체 공정 장비에 사용되는 용량성 결합 플라즈마 Capacitively Coupled Plasma (CCP)의 전자에너지분포함수를 제어하는 방법을 컴퓨터 시뮬레이션을 통해 연구하여 고출력 장비에서 발생되는 비선형 현상과 고조파를 포함한 구동 파형의 효과를 제어하는 원리를 연구함
❍ 전체 내용
■ 연구 내용
- 1차원 시뮬레이션을 통해 플라즈마 외부 변수과 용량성 결합 플라즈마 내 변수 연관성 분석
- 인가주파수 조정을 통해 플라즈마 내 비선형 시간가변

□ 연구개발 목표 및 내용
❍ 최종 목표
반도체 공정 장비에 사용되는 용량성 결합 플라즈마 Capacitively Coupled Plasma (CCP)의 전자에너지분포함수를 제어하는 방법을 컴퓨터 시뮬레이션을 통해 연구하여 고출력 장비에서 발생되는 비선형 현상과 고조파를 포함한 구동 파형의 효과를 제어하는 원리를 연구함
❍ 전체 내용
■ 연구 내용
- 1차원 시뮬레이션을 통해 플라즈마 외부 변수과 용량성 결합 플라즈마 내 변수 연관성 분석
- 인가주파수 조정을 통해 플라즈마 내 비선형 시간가변 전자에너지 분포함수 등의 비선형성 제어 연구
- 외부 전력와 플라즈마 내 하전 입자 운동을 결부시키는 에너지 수송 모델 검증 및 전기적 부하 해석

□ 연구개발성과
관련특허 1건, SCI논문 투고예정 2건, 관련 연구 반도체 산업체 연구직(정규직) 취업

□ 연구개발성과 활용계획 및 기대 효과
○ 학문적/기술적 측면
- 기존 particle-in-cell 시뮬레이터의 CCP 특화된 업그레이드는 기초적 플라즈마 학술 연구에 벗어나 CCP 챔버 구조 설계와 목적 지향성 구동 최적화에 대한 기술적 해결책 제시
- 기존 플라즈마이론 응용 및 재발견을 통한 학술적 진보를 달성
- 플라즈마 가스 DB 구축 과 플라즈마 이론 모델 활용은 타 학문분야간의 융합연구를 가능하게 함
○ 산업적 측면
- 플라즈마 산업(반도체, 재료, 환경, 고전압 등)에 사용되는 기기 최적화 및 설계비용 절감
- 선진국 소유 기술인 반도체 및 디스플레이 제조장비 및 시뮬레이터의 국산화 기여
- 본 연구의 개발 결과물은 상용화 가능한 물리 연산프로그램에 결합 가능.
- 또한 국내 전산모사 관련 벤처 업체에 기술이전 가능. 국산 전산모사 소프트웨어 기업성장에 기여
- 플라즈마 물리학과 플라즈마 산업 간의 산학협력용 교육 시뮬레이션 개발 기여

(출처 : 요약문 2p)

목차 Contents

• 표지 ... 1
• 요 약 문 ... 2
• 목차 ... 3
• 1. 연구개발과제의 개요 ... 4
• 1-1. 연구의 목표 및 내용 ... 4
• 1-2. 연구의 필요성 ... 5
• 1-3. 연구의 추진전략 및 방법 ... 7
• 1-4. 연구결과의 중요성 ... 9
• 2. 연구개발과제의 수행 과정 및 수행 내용 ... 9
• 1년차 연차실적(기간 : 2018. 6. 1. ~ 2019. 2. 28.) ... 9
• 2년차 연차실적(기간 : 2019. 03. 01. ~ 2020. 02. 29.) ... 15
• 3차년도 연차실적(기간 : 2020. 06. 01. ~ 2021. 05. 31.) ... 19
• 3. 연구개발과제의 수행 결과 및 목표 달성 정도 ... 48
• 1) 1차년도 목표 및 수행결과 요약 ... 48
• 2) 2차년도 목표 및 수행결과 요약 ... 48
• 3) 3차년도 목표 및 수행결과 요약 ... 49
• 1) 연구수행 결과 ... 50
• 4. 연구개발성과의 관련 분야에 대한 기여 정도 ... 51
• 5. 연구개발성과의 관리 및 활용 계획 ... 52
• 6. 참고문헌 ... 52
• 끝페이지 ... 52