최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.22 no.1, 2023년, pp.113 - 117
이은지 (성신여자대학교) , 유영준 (차세대융합기술연구원) , 변창우 (차세대융합기술연구원) , 김진평 (차세대융합기술연구원)
As sputter equipment becomes more complex, it becomes increasingly difficult to understand the parameters that affect the thickness uniformity of thin metal film deposited by sputter. To address this issue, we verified a deep learning model that can predict complex relationships. Specifically, we tr...
R. K. Waits, "Planar magnetron sputtering," in Thin?Film Processes, edited by J. L. Vossen and W. Kern,?Academic, New York, 1978.
S. Swann, "Film thickness distribution in magnetron?sputtering", Vacuum, 38 (8) (1988), pp. 791-794
C. Fu, C. Yang, L. Han, H. Chen, "The thickness?uniformity of films deposited by magnetron sputtering?with rotation and revolution", Surf. Coating. Technol., 200 (2006), pp. 3687-3689
X. Sun, et al., "Thickness dependence of structure and?optical properties of silver films deposited by magnetron
Osowski, S.; Siwek, K.; Markiewicz, T. , "MLP and?SVM networks-a comparative study." In Proceedings of?the 6th Nordic Signal Processing Symposium, Espoo,?Finland, 9-11 June 2004; pp. 37-40.
Xu B, Wang N, Chen T, Li M. Empirical evaluation of?rectified activations in convolutional network; 2015.?arXiv preprint arXiv:1505.00853.
Kiranyaz S., Avci O., Abdeljaber O., Ince T., Gabbouj?M., Inman D.J. ,"1d convolutional neural networks and?applications: A survey" , Mech Syst Signal Process, 151 (2021), Article 107398
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.